Китайские исследователи преодолели барьер для внутреннего производства передовых чипов, создавая платформу источника света в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (EUV), которая работает с конкурентоспособными на международном уровне, согласно исследованиям, пишет UNN со ссылкой на Южный Китай.
Подробности
Группа из Шанхайского института оптики и точной механики китайской академии наук возглавляла Лин Нан, который ранее возглавлял Департамент источников света в Нидерландах в Нидерландах.
ASML, единственный производитель машин EUV в мире, которые имеют решающее значение для производства чипов с менее чем семью нанометрами, был лишен возможности продать свои передовые модели Китая с 2019 года из -за давления в США, отмечает газета.
В апелляции инвесторов 16 апреля генеральный директор ASML Кристоф Фука сказал, что «вы всегда можете генерировать небольшой свет EUV, но для создания автомобиля EUV за много лет потребуется Китай».
Лин вернулся в Китай в 2021 году и основал ведущую исследовательскую группу по технологии фотолитографии, которая отвечала за эту работу.
До прибытия в ASML лень обучалась в Анне Лайулье, Нобелевской премии по физике в 2023 году и членом Королевской шведской академии наук, в рамках стипендии, присуждаемой Программой Европейского союза Марии Склодовска-Кюри.
В статье, опубликованной в мартовском выпуске китайского журнала Lasers, говорится, что группа разработала лазерный источник света в плазме (LPP), основной компонент фотолихографических машин, который может стать прорывом для индустрии полупроводников Китая, указывает на публикацию.
«Экспериментальная платформа будет поддерживать локализацию твердотельных лазерных плазменных источников света и измерительных систем EUV, играя решающую роль в усилиях Китая по разработке технологии EUV-фотолитографии и ее ключевых компонентов»,-говорится в работе.
Согласно этой работе, лень и ее команда создали сплошную лазерную платформу, в отличие от промышленных фотолитографических устройств ASML, которые используют свет, полученный технологией CO2 для передачи чертежей диаграмм на кремниевых и других субстратах.
Лазеры CO2 обеспечивают мощность более 10 киловатт и высокую частоту повторения по сравнению с более низкой производительностью платформ твердотельного состояния.
«Хотя коммерческие лазеры CO2 имеют высокую мощность, они большие, неэффективны с точки зрения эффективности сетевого соединения (ниже 5 процентов) и дорогостоящих с точки зрения эксплуатации и электроэнергии», — написали Лин и его коллеги.
«Сплошные импульсные лазеры, которые достигли быстрого прогресса в течение последнего десятилетия, теперь достигают результатов на уровне киловатта и, как ожидается, достигнут в 10 раз больше в будущем. Они имеют компактный размер, с эффективностью сети около 20 процентов и может быть многообещающей заменой для полицейского. Работа.
Huawei удваивает выпуск CHII CIS: ключевой шаг в борьбе за технологическую независимость Китая 25.02.25, 11:31 • 30232 просмотров
Экспериментальная платформа достигла результатов, которые находились на том же уровне с аналогичными международными исследованиями Solid LLP EUV, причем более половины коэффициента эффективности трансформации коммерчески доступных источников света, контролируемых CO2-лазером, считывает.
Используя 1-микронный твердотельный лазер, команда достигла максимальной эффективности на 3,42 процента превышает 3,2 процента, зарегистрированную в 2019 году Голландским исследовательским центром нанолитографии и 1,8 процента в 2021 году.
Сравнение данных показало, что китайская платформа отстает от Университета Центральной Флориды, который достиг 4,9 процента в 2007 году, и Японский университет Утсомии, который в прошлом году зафиксировал эффективность трансформации 4,7 процента, пишет публикация.
Согласно работе, эффективность трансформации коммерчески доступных источников света для EUV-контролируемого EU2-лазера составляет около 5,5 процентов.
Исследователи отметили, что сплошные киловатт -лазеры с длиной волны в 1 микрон, способные обеспечить очень высокую эффективность трансформации, уже хорошо развиты и коммерчески доступны.
«Даже с эффективностью трансформации 3 процента, LPP -EUV с твердотельным лазерным светом может обеспечить мощность в диапазоне ватта, что делает его подходящим для проверки экспозиции EUV и проверки масок», -написали они.
Исследователи подсчитали, что теоретическая максимальная эффективность преобразования платформы может быть ближе к 6%.
WSJ: Китайский Huawei разрабатывает новый чип Shi, стремящийся конкурировать с Nvidia28.04.25, 09:09 • 3156 просмотров